O magnetron sputtering reativo é uma técnica madura para depositar uma fina camada de composto em uma ampla gama de substratos como camada superior ou como camada intermediária em um revestimento multicamadas. O escopo de “fino” varia de alguns nanômetros até vários micrômetros.
Por que um magnetron engasga?
Magnetron sputtering é o processo de colisão entre partículas incidentes e alvos … Magnetron sputtering aumenta a densidade do plasma introduzindo um campo magnético na superfície do catodo alvo e utilizando as restrições de o campo magnético nas partículas carregadas para aumentar a taxa de pulverização.
O que significa sputtering reativo?
sputtering reativo é um processo que permite que compostos sejam depositados pela introdução de um gás reativo (normalmente oxigênio ou nitrogênio) no plasma que é tipicamente formado por um gás inerte, como argônio (mais comum), xenônio ou criptônio.
Como funciona o magnetron sputter?
Magnetron sputtering é uma tecnologia de deposição envolvendo um plasma gasoso que é gerado e confinado a um espaço contendo o material a ser depositado – o 'alvo'. … Essas colisões causam uma repulsão eletrostática que 'elimina' os elétrons dos átomos de gás, causando ionização.
Por que a RF dispara?
RF ou Radio Frequency Sputtering é a técnica envolvida em alternar o potencial elétrico da corrente no ambiente de vácuo em radiofrequências para evitar uma carga acumulada em certos tipos de materiais alvo de sputtering, que ao longo do tempo pode resultar em arco no plasma que vomita gotículas …
